Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd.TSMC and ASML launch a 12-inch EUV photomask initiative to boost scanner productivity and defend TSMC's leading-edge AI/HPC manufacturing dominance.
台湾積体電路製造(TSMC)とASMLホールディングは9月8日、半導体業界を12インチ極端紫外線(EUV)フォトマスク規格へ移行させる業界共同構想を発表した。現在チップメーカーがHigh NA EUV装置に使用している6インチマスクを置き換えるものである。この移行はスキャナーの生産性向上、超大型チップにおけるスティッチング制約の解消、長期的な先端ノード製造コストの低減を狙いとしており、構想では2031年までのパイロットライン稼働と2033年までの12インチHigh NA生産を目標としている。TSMCは2030年からHigh NA EUVの採用を計画しており、12インチマスクは複雑なAIアーキテクチャを拡張するための複数年にわたるロードマップを提供する。ASMLにとって12インチ標準の確立はHigh NAスキャナー事業の長期的な経済性を確定させるもので、15%の売上拡大見通しを支える。一方TSMCにとっては、より大きな規格が最先端およびAI・HPC製造における支配的地位の維持に寄与する。10年にわたるロードマップには実行リスクが伴う。マスクブランクスや検査装置から自動搬送に至るまで、世界のサプライチェーン全体がゼロから設備を再構築する必要があるためだ。またTSMCはN2の立ち上げと海外工場拡張による短期的な粗利益率の希薄化に直面し、ASMLは2025年後半の粗利益率圧力と2026年を通じた地政学的な成長の不確実性に対処することになる。
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd.TSMC and ASML launch a 12-inch EUV photomask initiative to boost scanner productivity and defend TSMC's leading-edge AI/HPC manufacturing dominance.
ASML Holding N.V.Establishing a 12-inch standard locks in the long-term economic case for ASML's High-NA scanner line, supporting its 15% revenue expansion outlook.