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清溢光電、55nm位相シフトマスクを納品済み 顧客のライン投入認証段階へ
9月28日の取引時間終了後、清溢光電は自主的な情報開示公告を発表し、55nm PSM位相シフトマスク製品について、顧客と秘密保持契約を締結し製品仕様書を確認済みで、顧客から購買注文を受領し、製品はすでに納品され、顧客のライン投入認証段階に入ったと明らかにした。同社は同時に、ライン投入認証は顧客検証の重要な一環であり、認証期間と認証結果には不確実性があり、量産供給をいつ実現できるかはまだ確定できないと注意を促した。清溢光電は中国で最も早く設立され、最大規模のマスク生産企業の一つであり、フラットパネルディスプレイ用マスクと半導体チップ用マスクの二本柱の事業体制を形成している。今回公告された55nm PSMは、同社の半導体マスク事業がより高度なプロセスノードへ突破するための重要製品である。今年の半期報告書によると、同社の半導体チップ用マスク事業は55nm Binaryプロセスノードで顧客検証を通過しており、130nmから40nmプロセスノードのPSMおよびOPCプロセスマスクの研究開発を着実に進め、28nmノードのマスクプロセス開発計画も始動した。仏山清溢微生産基地はすでに試生産段階に入っており、2026年末までにPSM技術マスクの量産実現を計画している。報告期間中、同社は営業収入6億5400万元を達成し、前年同期比5.08%増加、親会社株主に帰属する純利益は1億1800万元で、前年同期比28.16%増加した。このうちフラットパネルディスプレイ用マスクの販売収入は5億2800万元で前年同期比7.42%増加、半導体チップ用マスクの営業収入は約1億100万元で前年同期比0.95%増加した。
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688138.CG · Technology · Positive 55nm PSM phase-shift masks delivered and entering customer qualification, advancing its semiconductor mask technology toward more advanced nodes.