ASML、サムスンとインテルとのHigh-NA EUV連携を拡大

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要約 · なぜ重要か

ASMLホールディングは、AI関連のチップ需要が製造の複雑さを高める中、サムスン電子とインテルとのHigh-NA EUV顧客連携を拡大している。火曜日、ASMLはHigh-NA EUVと先端半導体製造を巡るサムスンとの長年のパートナーシップを拡大し、同じ日に、より大きなフォーマットのマスクを含む将来の微細化ニーズに関するインテルとの協業も拡張した。インテルはすでにHigh-NAを量産に移行しており、インテル・ファウンドリのPanther Lake生産を支援し、一部の18A製品層で同技術を認定した。ASMLの第2四半期プレゼンテーションはこれを新たな準備完了のマイルストーンと評した。サムスンは、High-NA EUV向けの12インチフォトマスク基盤を開発する業界イニシアチブに参加し、2028年までにASMLのHigh-NA技術を将来のDRAM大量生産に導入する計画だ。2026年第1四半期に、High-NA基盤は50万枚を超えるウェハを処理し、稼働率は80%超を達成した。一方、ASMLは2026年に先端ファウンドリのロジック売上高が約25%増加し、メモリ売上高が75%増加し、EUV売上高が約45%成長すると見込んでいる。経営陣は依然として、High-NAがどのように、いつ大量生産に移行するかについて全顧客と協議することを想定しており、より広範な採用のペースは顧客の認定と製造上の判断にかかっている。

資産への影響 3

Semiconductors▲ · 2 銘柄
ASML Holding N.V.
ASML
▲ ポジティブ需要関連度

ASML expanded High-NA EUV collaborations with Samsung and Intel, with advanced foundry Logic revenue expected to rise ~25% and Memory revenue 75% in 2026.

Intel Corporation
INTC
▲ ポジティブ技術関連度

ASML extended its High-NA EUV collaboration with Intel, which has moved High-NA into production for Panther Lake and qualified it on 18A layers.

Artificial Intelligence▲ · 1 銘柄
Samsung Electronics Co Ltd
005930
▲ ポジティブ技術関連度

ASML expanded its High-NA EUV partnership with Samsung, which will adopt the tech for future DRAM high-volume manufacturing by 2028.

テーマインパクト 7

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ASMLとTSMCの決算、AI関連需要のシグナルを試す可能性

ASMLと台湾積体電路製造は決算発表を控えており、投資家の関心は直近の業績よりも市場がどう反応するかに向かっている。両社はともに好調な四半期を発表したものの、その後株価は軟調に推移した。アワド氏は、今回の決算が、期待がリセットされる中で半導体企業の業績が再び相場の触媒となり得るかを示すと予想している。ASMLはリソグラフィ装置を供給し、TSMCは主要な半導体受託製造企業として事業を展開しており、両社の事業がチップ供給チェーンの上流に位置することから、業界全体の状況をより広く見渡すことができる。投資家は2027年に対する大手クラウド企業の支出計画や、AIコストが低下しているかどうかも精査する可能性がある。アワド氏は、一部のAIモデルの価格低下や大手プロバイダーによる割引がインフラ支出に影響を与え得る要因だと指摘した。ASMLは10月14日に第3四半期決算を発表する予定で、TSMCが10月15日に続く。アワド氏によると、市場の反応は、2027年を前にAI関連需要を市場がどう評価しているかを示す手がかりになる可能性がある。
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UBS、2026年第3四半期決算を前に欧州半導体のトップ銘柄にASML、ASMインターナショナル、STマイクロエレクトロニクスを選定

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ウェルズ・ファーゴ、TSMCの2ナノ拡張で半導体製造装置サプライヤーが勝者と指摘

ウェルズ・ファーゴは、TSMCが2ナノメートル生産を拡張する可能性がある場合、半導体製造装置企業が短期的に最大の恩恵を受ける可能性があると述べた。アナリストのジョー・クアトロキ氏は、生産能力増強の可能性に関する報道は、半導体製造装置企業にとって潜在的な追加の好機と見るべきだが、時期や規模、ノードの詳細はまだ確認されていないと記した。2ナノの生産能力を追加で構築するには、リソグラフィ、成膜、エッチング、検査装置への多額の支出が必要となり、TSMCの工場を支えるサプライヤーに新たな需要をもたらす。クアトロキ氏は、米国での第2拠点の有力候補地として、いわゆるシリコンプレーリーを挙げ、テキサス州で既に半導体事業を展開するテキサス・インスツルメンツ、サムスン、コヒレント、テラファブに加え、オースティンにあるTSMCのデザインサービスセンターの存在を指摘した。TSMCの2ナノの主要顧客にはアップル、エヌビディア、AMD、クアルコムが含まれ、グーグル、ブロードコム、マーベル、アマゾン、オープンAIも同先端プロセスを採用するとみられている。
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2330.TW · Demand · Positive Reports of a potential TSMC 2nm capacity expansion would add equipment demand supporting TSMC's fabs, with TSMC as the central subject.
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▲2impact 4

TSMCの2ナノ容量、2026年末までに月産12万枚に到達へ=EDN報道

台湾積体電路製造(TSMC)が2ナノメートル世代の生産能力拡大を加速しており、2026年末までに月産約12万枚に達する見通しだ。従来予想の9万枚から10万枚を上回る。台湾のメディア、EDNが伝えた。同報道は業界筋の話として、アップル、エヌビディア、AMD、クアルコム、メディアテックなどの顧客が最近、TSMCの2ナノ世代の生産能力に対する発注を10%から20%引き上げたと報じた。TSMCの侯永清上級副社長によると、同社は今年、新竹に2工場、高雄に3工場の計5つの2ナノ工場を稼働させる。侯氏は、2ナノの初年度ウエハー生産量は2023年の3ナノの初年度生産量を45%上回ると述べた。また、2ナノの生産能力は2026年から2028年にかけて年平均70%の複合成長率で拡大する見込みだという。
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Semiconductors › Foundry & Contract Fabrication ▲Supply
Artificial Intelligence › Foundry & Advanced Packaging ▲Supply
Artificial Intelligence › AI Compute & Accelerator Silicon ▲Supply
Semiconductors › Wafer-Fab Equipment & Lithography ▲Demand
Semiconductors › Lithography Systems ▲Demand
Semiconductors › Deposition, Etch & Process Tools ▲Demand
Semiconductors › Materials & Specialty Chemicals ▲Demand
Semiconductors › Advanced Packaging & Test (OSAT) ▲Demand
2330.TW · Supply · Positive TSMC is accelerating 2nm capacity expansion to ~120,000 wafers monthly by end-2026, ahead of prior expectations.
2454.TW · Demand · Positive MediaTek is named among customers that raised TSMC 2nm orders by 10-20%, signaling strong demand for its next-gen chips.
AAPL · Demand · Positive Apple raised its orders for TSMC's 2nm capacity by 10-20%, signaling strong demand for its next-gen chips.
AMD · Demand · Positive AMD raised its orders for TSMC's 2nm family capacity by 10-20%.
NVDA · Demand · Positive Nvidia raised its orders for TSMC's 2nm family capacity by 10-20%.
QCOM · Demand · Positive Qualcomm raised its orders for TSMC's 2nm family capacity by 10-20%.
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TSMCとASML、2031年のパイロットラインを目標とする12インチEUVフォトマスク構想を始動

台湾積体電路製造(TSMC)とASMLホールディングは9月8日、半導体業界を12インチ極端紫外線(EUV)フォトマスク規格へ移行させる業界共同構想を発表した。現在チップメーカーがHigh NA EUV装置に使用している6インチマスクを置き換えるものである。この移行はスキャナーの生産性向上、超大型チップにおけるスティッチング制約の解消、長期的な先端ノード製造コストの低減を狙いとしており、構想では2031年までのパイロットライン稼働と2033年までの12インチHigh NA生産を目標としている。TSMCは2030年からHigh NA EUVの採用を計画しており、12インチマスクは複雑なAIアーキテクチャを拡張するための複数年にわたるロードマップを提供する。ASMLにとって12インチ標準の確立はHigh NAスキャナー事業の長期的な経済性を確定させるもので、15%の売上拡大見通しを支える。一方TSMCにとっては、より大きな規格が最先端およびAI・HPC製造における支配的地位の維持に寄与する。10年にわたるロードマップには実行リスクが伴う。マスクブランクスや検査装置から自動搬送に至るまで、世界のサプライチェーン全体がゼロから設備を再構築する必要があるためだ。またTSMCはN2の立ち上げと海外工場拡張による短期的な粗利益率の希薄化に直面し、ASMLは2025年後半の粗利益率圧力と2026年を通じた地政学的な成長の不確実性に対処することになる。
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Semiconductors › Lithography Systems ▲Technology
Artificial Intelligence › Foundry & Advanced Packaging ▲Technology
Semiconductors › Foundry & Contract Fabrication ▲Technology
Artificial Intelligence › AI Compute & Accelerator Silicon ▲Technology
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